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石墨烯在铜表面遵循表面催化机制,点率达这种方式得到的石墨烯以单层为主,点率达当第一层石墨烯覆盖金属表面时,金属难以继续催化裂解碳源,很难再继续生长第二层,这就是Cu基底特有的自限制行为。图1.CVD法制备石墨烯示意图2.石墨烯生长的热力学与动力学过程2.1石墨烯CVD生长的一般过程CVD法制备石墨烯,春节次正主要是利用碳源在一定温度或外场下发生化学分解并在基底表面沉积来实现。
期间金属Cu是目前生长石墨烯最理想的催化基底。自从石墨烯被发现以来,济南机场进出计其制备技术也同时引起学术界的广泛关注。
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